Sistema di stampa a litografia 3D a due fotoni FIRST-CLA all'ETH Zürich
Descrizione
Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt: 1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit 2) 3D...
Riepilogo AI
La gara d'appalto riguarda l'acquisto di un sistema di micro e nanolitografia 3D a due fotoni per la FIRST-CLA-Plattform dell'ETH Zürich. Questo sistema è destinato a scopi di stampa 3D di strutture con risoluzione nanometrica e superfici lisce, operando su vari substrati senza necessità di pretratt...
- Acquisto di un sistema di micro e nanolitografia 3D a due fotoni.
- Applicazioni: stampa 3D di strutture submicroniche e micrometriche.
Panoramica dei rischi
- Requisiti sproporzionati1
- Obbligo di consorzio o partnership1
- Assicurazioni con massimali elevati1
- Scadenze troppo strette1
- Requisiti linguistici restrittivi1
- Ostacoli generali per le PMI1
Cronologia delle modifiche(3)
- ——
- ——
- Minore—
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Segnalazioni
6 segnalazioni identificate — Rischio complessivo: high
Requisiti finanziari
Specifiche tecniche
Storico modifiche
3 modifiche rilevate
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Informazioni sul committente
- Attivi ora
- 2
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- 19
- Ultima attività
- Ieri
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