ICP3 Ionična apparecchiatura per analisi FIRST ETH Zürich
Descrizione
Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma, bestehend aus einem Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, mit Prozessdruck bis 100 mtorr und Gasflüssen bis 500 sccm, RF/ICP-Generatoren im kW-Bereich mit Autotuning, spektroskopischer Überwachung des Plasmas, automatisc...
Riepilogo AI
La gara riguarda la fornitura di un impianto di incisione ionica reattiva con plasma accoppiato induttivamente. L'impianto deve includere un sistema di fornitura di gas per almeno 9 gas, capace di operare a pressioni di processo fino a 100 mtorr e flussi di gas fino a 500 sccm. È richiesto un genera...
- Fornitura di un impianto di incisione ionica reattiva con plasma accoppiato induttivamente.
- Sistema di fornitura di gas per almeno 9 gas.
Panoramica dei rischi
- Requisiti sproporzionati1
- Obbligo di consorzio o partnership1
- Assicurazioni con massimali elevati1
- Scadenze troppo strette1
- Requisiti linguistici restrittivi1
- Ostacoli generali per le PMI1
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Segnalazioni
6 segnalazioni identificate — Rischio complessivo: high
Requisiti finanziari
Specifiche tecniche
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Informazioni sul committente
- Attivi ora
- 2
- Totale
- 21
- Ultima attività
- 5 giorni fa
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