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Impianto di deposizione a film sottile per il sputtering di metalli e dielettrici

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Zurigo Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri) award unknown
Procedura: unknown Tipo di commessa: unknown ID SIMAP: f5338cbf Primo rilevamento: 8 apr 2026 Ultima pubblicazione: 19 nov 2025
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Descrizione

Dünnschicht-Cluster-Beschichtungsanlage für das Sputtern von Metallen und Dielektrika Clusteranlage mit einer Schleuse und 4 Prozesskammern (PCs) für das DC- und RF-Sputtern von Dielektrika und Metallen auf Halbleiter- und anderen Substraten. Details entnehmen Sie bitte unserer Spezifikation.

Riepilogo AI

La gara riguarda l'acquisto di un impianto di rivestimento a film sottile per il sputtering di metalli e dielettrici. L'impianto deve includere una camera di carico e quattro camere di processo, progettate per sputtering DC e RF su substrati semiconduttori e altri materiali. I dettagli tecnici speci...

  • Impianto per sputtering di metalli e dielettrici.
  • Include una camera di carico e quattro camere di processo.

Panoramica dei rischi

  • Requisiti sproporzionati1
  • Referenze1
  • Certificazioni1
  • Assicurazioni1
  • Scadenze1
  • Requisiti linguistici1
  • Obbligo di consorzio1

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ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Zurigo
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