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Système d'impression lithographique 3D à deux photons FIRST-CLA à l'ETH Zurich

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Zurich Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) award unknown
Délai de soumission: 4 février 2026 à 23:00
Délai expiré
Procédure: unknown Type de marché: unknown ID SIMAP: efad917e Première détection: 8 avr. 2026 Dernière publication: 18 avr. 2026
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Description

Die FIRST-CLA-Plattform der ETH Zürich bittet um Angebote für den Kauf eines Zwei-Photonen-3D-Mikro- und Nanolithografiesystems. Das Gerät wird für folgende Zwecke eingesetzt: 1) 3D-Druck von Strukturen im Submikron- und Mikrometerbereich mit Nanometerauflösung und Nanometer-Oberflächenrauheit 2) 3D...

Résumé IA

Le marché public concerne l'acquisition d'un système de micro et nanolithographie 3D à deux photons pour la plateforme FIRST-CLA de l'ETH Zürich. Ce système est destiné à des fins d'impression 3D de structures à résolution nanométrique et de surfaces lisses, fonctionnant sur divers substrats sans né...

  • Achat d'un système de micro et nanolithographie 3D à deux photons.
  • Applications : impression 3D de structures submicrométriques et micrométriques.

Aperçu des risques

  • Requisiti sproporzionati1
  • Obbligo di consorzio o partnership1
  • Assicurazioni con massimali elevati1
  • Scadenze troppo strette1
  • Requisiti linguistici restrittivi1
  • Ostacoli generali per le PMI1

Historique des modifications(3)

  1. ——
  2. ——
  3. Mineur—

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À propos de l'adjudicateur

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Zurich
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