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ICP3 Installation de gravure ionique FIRST ETH Zurich

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Zurich Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) award unknown
Procédure: unknown Type de marché: unknown ID SIMAP: bc0a3ccd Première détection: 8 avr. 2026 Dernière publication: 15 mars 2025
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Description

Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma, bestehend aus einem Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, mit Prozessdruck bis 100 mtorr und Gasflüssen bis 500 sccm, RF/ICP-Generatoren im kW-Bereich mit Autotuning, spektroskopischer Überwachung des Plasmas, automatisc...

Résumé IA

L'appel d'offres concerne la fourniture d'un équipement d'ionisation réactive par plasma à couplage inductif. L'équipement doit inclure un système d'alimentation en gaz capable de gérer au moins 9 gaz, fonctionnant à des pressions de processus allant jusqu'à 100 mtorr et des débits de gaz allant jus...

  • Fourniture d'un équipement d'ionisation réactive par plasma à couplage inductif.
  • Système d'alimentation en gaz pour au moins 9 gaz.

Aperçu des risques

  • Requisiti sproporzionati1
  • Obbligo di consorzio o partnership1
  • Assicurazioni con massimali elevati1
  • Scadenze troppo strette1
  • Requisiti linguistici restrittivi1
  • Ostacoli generali per le PMI1

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À propos de l'adjudicateur

ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Zurich
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il y a 4 jours

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