ICP3 Ionenätzanlage FIRST ETH Zürich
Beschreibung
Lieferung einer reaktiven Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma, bestehend aus einem Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase, mit Prozessdruck bis 100 mtorr und Gasflüssen bis 500 sccm, RF/ICP-Generatoren im kW-Bereich mit Autotuning, spektroskopischer Überwachung des Plasmas, automatisc...
KI-Zusammenfassung
Die Ausschreibung betrifft die Lieferung einer reaktiven Ionen-Ätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma. Die Anlage muss ein Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase umfassen, das Betriebsdrücke bis zu 100 mtorr und Gasflüsse bis zu 500 sccm ermöglicht. Es ist ein RF/ICP-Generator erforderlich, d...
- Lieferung einer reaktiven Ionen-Ätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma.
- Gasversorgungssystem für mindestens 9 Gase.
Risikoübersicht
- Requisiti sproporzionati1
- Obbligo di consorzio o partnership1
- Assicurazioni con massimali elevati1
- Scadenze troppo strette1
- Requisiti linguistici restrittivi1
- Ostacoli generali per le PMI1
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6 Warnhinweise erkannt — Gesamtrisiko: high
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Über den Auftraggeber
- Aktuell aktiv
- 2
- Insgesamt
- 21
- Letzte Aktivität
- vor 4 Tagen
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